CO2 Laser Induced Photoelectric Resistance Effect
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摘要: 通过激光照射可以在金属-氧化物-半导体(MOS)结构中实现电阻变化,使用二氧化碳激光照射多壁碳纳米管-二氧化硅-硅(MWNTs-SiO2-Si)结构,观察电阻随时间变化的瞬态响应.研究表明对硅片施加正偏压,可以增大器件的电阻值,对硅片施加负偏压,可以减小器件的电阻值.二氧化碳激光的功率越小,电阻达到极值所需的时间越长;反之,二氧化碳激光功率越大,电阻达到极值所需的时间越短.
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