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SiO2薄膜制备方法、性能及其应用的研究进展

俞立宸,  季鑫,  高磊,  顾雁豪,  周晟吉

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俞立宸, 季鑫, 高磊, 顾雁豪, 周晟吉. SiO2薄膜制备方法、性能及其应用的研究进展[J]. 上海工程技术大学学报, 2019, 33(3): 215-218,277. doi: 10.3969/j.issn.1009-444X.2019.03.005
引用本文: 俞立宸, 季鑫, 高磊, 顾雁豪, 周晟吉. SiO2薄膜制备方法、性能及其应用的研究进展[J]. 上海工程技术大学学报, 2019, 33(3): 215-218,277. doi: 10.3969/j.issn.1009-444X.2019.03.005
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YU Lichen, JI Xin, GAO Lei, GU Yanhao, ZHOU Shengji. Research Progress on Preparation Technology, Properties and Applications of SiO2 Film[J]. Journal of Shanghai University of Engineering Science, 2019, 33(3): 215-218,277. doi: 10.3969/j.issn.1009-444X.2019.03.005
Citation: YU Lichen, JI Xin, GAO Lei, GU Yanhao, ZHOU Shengji. Research Progress on Preparation Technology, Properties and Applications of SiO2 Film[J]. Journal of Shanghai University of Engineering Science, 2019, 33(3): 215-218,277. doi: 10.3969/j.issn.1009-444X.2019.03.005
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SiO2薄膜制备方法、性能及其应用的研究进展

doi: 10.3969/j.issn.1009-444X.2019.03.005

  • 上海工程技术大学数理与统计学院,上海,201620

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  • 中图分类号: TG174

Research Progress on Preparation Technology, Properties and Applications of SiO2 Film

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  • 刊出日期:  2019-09-30

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