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电子束选区熔化气孔形成机理

孟玄,  杨尚磊,  房郁,  黄玉宝

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文章导航 > 上海工程技术大学学报  > 2020 >  34(1): 81-86
孟玄, 杨尚磊, 房郁, 黄玉宝. 电子束选区熔化气孔形成机理[J]. 上海工程技术大学学报, 2020, 34(1): 81-86. doi: 10.3969/j.issn.1009-444X.2020.01.015
引用本文: 孟玄, 杨尚磊, 房郁, 黄玉宝. 电子束选区熔化气孔形成机理[J]. 上海工程技术大学学报, 2020, 34(1): 81-86. doi: 10.3969/j.issn.1009-444X.2020.01.015
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MENG Xuan, YANG Shanglei, FANG Yu, HUANG Yubao. Formation Mechanism of Molten Pores in Electron Beam Selective Melting[J]. Journal of Shanghai University of Engineering Science, 2020, 34(1): 81-86. doi: 10.3969/j.issn.1009-444X.2020.01.015
Citation: MENG Xuan, YANG Shanglei, FANG Yu, HUANG Yubao. Formation Mechanism of Molten Pores in Electron Beam Selective Melting[J]. Journal of Shanghai University of Engineering Science, 2020, 34(1): 81-86. doi: 10.3969/j.issn.1009-444X.2020.01.015
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电子束选区熔化气孔形成机理

doi: 10.3969/j.issn.1009-444X.2020.01.015

  • 上海工程技术大学材料工程学院,上海,201620

  • 上海工程技术大学材料工程学院,上海201620

  • 上海工程技术大学上海市激光先进制造技术协同创新中心,上海201620

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  • 中图分类号: TG213.5

Formation Mechanism of Molten Pores in Electron Beam Selective Melting

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  • 刊出日期:  2020-03-30

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